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鋼研納克雙向觀測ICP光譜儀

  • 產品型號:Plasma3000
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2023-10-30
  • 訪  問  量:3023
  • 簡要描述:鋼研納克雙向觀測ICP光譜儀源于鋼鐵研究總院,35年電感耦合等離子體光譜儀方法開發(fā)經驗,數十項ICP檢測標準的起草單位,ICP光譜儀產品標準GB/T 36244-2018起草單位,重大科學儀器專項《ICP痕量分析儀器的研制》牽頭單位,懂ICP應用的國產ICP光譜儀制造商。
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詳細介紹
品牌鋼研納克/NCS價格區(qū)間面議
儀器種類全譜直讀應用領域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,食品,化工,石油

鋼研納克雙向觀測ICP光譜儀

儀器介紹

Plasma 3000 ICP光譜儀可廣泛適用于冶金、地質、材料、環(huán)境、食品、醫(yī)藥、石油、化工、生物、水質等各領域的元素分析。

Plasma 3000 ICP光譜儀具有垂直火炬,雙向觀測,冷錐消除尾焰,具有更寬的動態(tài)線性范圍和更低的背景。

固態(tài)射頻發(fā)生器,高效穩(wěn)定,體積小巧,匹配速度快,確保Plasma 3000 ICP光譜儀高精度運行及優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。

高速面陣 CCD 采集技術,單次曝光獲取全部譜線信息,Plasma 3000 ICP光譜儀真正實現“全譜直讀"。

功能強大的軟件系統(tǒng),簡化分析方法的開發(fā)過程。應用工程師為ICP光譜儀用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗。

鋼研納克雙向觀測ICP光譜儀

技術參數

Plasma 3000 ICP光譜儀分析性能

檢 出 限:亞 ppb- ppb 短期穩(wěn)定性:RSD ≤ 0.5%(1mg/L)
長期穩(wěn)定性:RSD ≤ 1.0%(4h,1mg/L)

光源:自激式固態(tài)射頻發(fā)生器,功率連續(xù) 1 瓦可調 震蕩頻率:27.12MHz

輸出功率:700W-1600W 功率穩(wěn)定性:< 0.1%

儀器規(guī)格:尺寸:寬 x 深 x 高(2650px x 1675px x 1875px) 重  量:約 180kg

光學系統(tǒng):分析譜線范圍:165-950nm

分  辨  率: 0.007nm@200nm 光室恒溫:38℃ ±0.1℃

CCD 像素:1024x 1024;單像素面積:24μm x 24μm

實驗室濕度環(huán)境:相對濕度 20%~80% 氬氣純度:不小于 99.995%

排  風:不小于 400 立方米 / 小時

電  源:200V~240V AC 單相;50Hz~60Hz;4kVA


鋼研納克雙向觀測ICP光譜儀

儀器特點

分光系統(tǒng)

Plasma 3000 ICP光譜儀采用徑向觀測與軸向觀測設計,適應亞ppm到高含量的元素測量。 中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構,使用CaF2棱鏡,提高光路傳輸效率。 優(yōu)化的光學設計,采用非球面光學元件,改善成像質量,提高光譜采集效率。 光室氣體氛圍保持技術,縮短光室充氣時間,提高紫外光譜靈敏度及穩(wěn)定性,開機即可測量。 包圍式立體控溫系統(tǒng),保障光學系統(tǒng)長期穩(wěn)定無漂移。


光源

固態(tài)射頻發(fā)生器,高效穩(wěn)定,體積小巧,效率高,匹配速度快,鋼研納克Plasma 3000 ICP光譜儀能適應各種復雜基體樣品及揮發(fā)性有機溶劑的測試,均能獲得優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。 垂直炬管的設計,具有更好的樣品耐受性,減少了清潔需求,降低了備用炬管的消耗。 冷錐消除尾焰技術,大程度地降低自吸效應和電離干擾,從而獲得更寬的動態(tài)線性范圍和更 低的背景,保證準確的測量結果。 具有綠色節(jié)能待機模式,待機時降低輸出功率,減小氣體流量,僅維持等離子體運行,節(jié)約使用成本。

簡潔的炬管安裝定位設計,快速定位,精確的位置重現。 實時監(jiān)控儀器運行參數,高性能CAN工業(yè)現場總線,保障通訊高效可靠。


進樣系統(tǒng)

簡潔的炬管安裝設計,自動定位炬管位置,精確的位置重現。鋼研納克Plasma 3000 ICP光譜儀配備系列經過優(yōu)化的進樣系統(tǒng),可用于有機溶劑、高鹽/復雜基體樣品、含氫氟酸(HF) 等樣品的測試。

使用可拆卸式或一體式炬管,易于維護,轉換快速,使用成本低。Plasma 3000 ICP光譜儀使用質量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量,保障測試性能長期穩(wěn)定。 多通道12滾輪蠕動泵,提升樣品導入穩(wěn)定性。

檢測器

大面積背照式CCD檢測器,全譜段響應,高紫外量子化效率,抗飽和溢出,具有極寬的動態(tài)范 圍和極快的信號處理速度。 一次曝光,完成全譜光譜信號的采集讀取,從而獲得更為快速、準確的分析結果。Plasma 3000 ICP光譜儀具有同類產品中大靶面尺寸,*像素,單像素面積24μm X 24μm,三級半導體制冷,制冷溫 度 低,具有更低的噪聲和更好的穩(wěn)定性。

軟件系統(tǒng)

人性化的界面設計,流暢易懂,簡便易用,針對分析應用優(yōu)化的軟件系統(tǒng),無須復雜的方法開發(fā), 即可快速開展分析操作。

豐富的譜線庫,智能提示潛在干擾元素,幫助用戶合理選擇分析譜線。 輕松的觀測方式設置,直觀的測試結果顯示。

安全防護

*電磁屏蔽,減少電磁輻射 連鎖門保護,避免用戶誤操作可能帶來的風險 防紫外觀測窗

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